panid_banner

Porous SiC Vacuum Chuck nga Gipaluyohan sa Metal para sa Pagdumala sa Warped ug Nipis nga Wafer

Porous SiC Vacuum Chuck nga Gipaluyohan sa Metal para sa Pagdumala sa Warped ug Nipis nga Wafer

Mubo nga Deskripsyon:

Ang metal-based ceramic vacuum chuck sa St.Cera naghiusa sa porous silicon carbide (SiC) ceramic layer nga adunay precision-machined metal base (aluminum o stainless steel). Ang porous SiC material (blue-black, porosity 35–40%, pore size 20–30 μm, permeability 60 ml/cm²·min) naghatag og uniporme, hinay nga vacuum distribution sa tibuok wafer surface, nga nagwagtang sa edge marking ug nagtugot sa non-contact support para sa nipis (≤100 μm) o warped wafers. Ang SiC layer nagtanyag og ubos nga thermal expansion (3.5×10⁻⁶/℃), thermal stability hangtod sa 1000°C, ug kasarangan nga flexural strength (32–35 MPa). Ang metal base nagdugang og structural rigidity, sayon ​​nga pag-mount pinaagi sa threaded holes, ug proteksyon batok sa brittle fracture. Kini nga chuck sulundon para sa backside grinding, dicing, ug high-temperature wafer processing diin ang uniporme nga vacuum ug thermal compatibility importante.

 


Detalye sa Produkto

Mga Tag sa Produkto

Ang metal-based ceramic vacuum chuck sa St.Cera naghiusa sa porous silicon carbide (SiC) ceramic layer nga adunay precision-machined metal base (aluminum o stainless steel). Ang porous SiC material (blue-black, porosity 35–40%, pore size 20–30 μm, permeability 60 ml/cm²·min) naghatag og uniporme, hinay nga vacuum distribution sa tibuok wafer surface, nga nagwagtang sa edge marking ug nagtugot sa non-contact support para sa nipis (≤100 μm) o warped wafers. Ang SiC layer nagtanyag og ubos nga thermal expansion (3.5×10⁻⁶/℃), thermal stability hangtod sa 1000°C, ug kasarangan nga flexural strength (32–35 MPa). Ang metal base nagdugang og structural rigidity, sayon ​​nga pag-mount pinaagi sa threaded holes, ug proteksyon batok sa brittle fracture. Kini nga chuck sulundon para sa backside grinding, dicing, ug high-temperature wafer processing diin ang uniporme nga vacuum ug thermal compatibility importante.

 

Mga Espesipikasyon (base sa gihatag nga porous SiC data):

Kabtangan Bili
Materyal nga Seramik Buho nga Silikon nga Carbide (SiC ≥80%)
Kolor Asul-itom
Porosidad 35–40%
Gidak-on sa Lunga 20–30 μm
Densidad 2.1–2.3 g/cm³
Pagkamabalhinon 60 ml/cm²·min
Kusog sa Pag-flex 32–35 MPa
Koepisyente sa Pagpalapad sa Init (25-1000°C) 3.5×10⁻⁶/℃
Pinakataas nga Temperatura sa Pag-operate 1000°C
Pagsukol sa Elektrisidad 10⁻¹⁰ Ω/cm (sumala sa gihatag nga datos, tipikal para sa porous SiC)
Materyal nga Basehan sa Metal Aluminum 6061 o Stainless Steel 304 (opsyonal)
Gibag-on sa Base sa Metal 10–30 mm (gipaangay)

Mubo nga sulat: Ang kusog sa pag-flex sa metal mas ubos kay sa dasok nga SiC tungod sa porosity. Ang mga kinaiya sa metal base dili gikan sa mga lamesa nga seramik.

 

Mga Aplikasyon:

  • · Paggaling sa likod nga bahin sa nipis nga mga wafer (≤100 μm)
  • · Nabawog nga wafer mounting para sa dicing
  • · Pag-chuck sa wafer sa taas nga temperatura (hangtod sa 1000°C)
  • · Vacuum fixturing para sa mga porous o delikado nga substrates

 

Paggama:

Porous SiC plate (giporma gamit ang mga pore former, sintered) → gi-lapped hangtod sa pagkapatag nga ≤10 μm → metal base nga gi-machine gamit ang mga vacuum port ug mga mounting feature → epoxy bonding o mechanical clamping → helium leak test.

 

Pagkontrol sa Kalidad:

  • · Ang porosity ug gidak-on sa pore gipamatud-an sa SEM
  • · Pagsulay sa permeability (pag-agos sa hangin)
  • · Gisukod ang pagkapatag gamit ang laser interferometer
  • · Rate sa pagtulo sa helium <1×10⁻⁹ Pa·m³/s

 

Mga Bentaha kon itandi sa Grooved o Dense Ceramic Chucks:

  • · Walay marka sa wafer – parehas nga vacuum nga walay mga buho
  • · Mga pores nga makalimpyo sa kaugalingon – makapakunhod sa baradong mga pores
  • · Makakupot sa mga wafer nga kurbado (hangtod sa 500 μm nga pana)
  • · Ang metal nga base makapugong sa dali nga pagkabali ug makapasayon ​​sa paghiusa

 

Mga Limitasyon:

  • · Mas ubos nga kusog sa pag-flex (32–35 MPa) – likayi ang pagkarga sa impact
  • · Ang temperatura sa pag-operate limitado sa 1000°C (porous SiC), apan ang metal base epoxy bond limitado sa ≤200°C gawas kung mekanikal nga gi-clamp
  • · Dili para sa high-pressure vacuum (ang porous structure naglimite sa max vacuum differential)

 

Pag-customize:

  • · Metal nga base: aluminum (gaan), stainless steel (dili daling madaot), Invar (gamay ang pag-expand)
  • · Pagbugkos: epoxy (≤200°C) o mekanikal nga clamp (hangtod sa 500°C)
  • · Singsing sa pagsilyo sa ngilit para sa pagkontrol sa vacuum sa sona

 

Palihug timan-i: Ang gihatag nga kusog sa pagbaluktot (32–35 MPa) mas ubos kay sa dasok nga mga seramiko tungod sa porosidad. Kupti kini pag-ayo aron malikayan ang pagkabuak sa ngilit.


  • Miagi:
  • Sunod: